AFTER-SUN HAIR MASK - OWAY
AFTER-SUN HAIR MASK - OWAY
Le after-sun hair mask nourrit en profondeur et rétablit les lipides de la fibre capillaire.
Il répare efficacement et scelle les cuticules, conférant ainsi une brillance remarquable à la chevelure.
Avec cette formule, vos cheveux bénéficient d'un soin complet, alliant nutrition profonde, réparation, et une finition éclatante pour une apparence saine et lumineuse.
CONSEILS D'APPLICATION
Appliquez sur des cheveux lavés et humides, laissez agir pendant 3 à 5 minutes, puis rincez soigneusement.
INGRÉDIENTS
Aqua/Water/Eau OZ, Cetearyl Alcohol ND, Myristyl Alcohol ND, Cetrimonium Chloride ND, Calendula Officinalis Flower Extract BD, Adansonia Digitata Seed Oil O, Passiflora Edulis Seed Oil FT, Polymnia Sonchifolia Root Juice ND, Helianthus Annuus (Sunflower) Seed Oil ND, Citrus Aurantium Bergamia (Bergamot) Fruit Oil EO, Citrus Limon (Lemon) Peel Oil EO/BD, Foeniculum Vulgare (Fennel) Oil EO/BD, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Peel Oil EO, C13-15 Alkane ND, Behentrimonium Chloride ND, Bis-(Isostearoyl/Oleoyl Isopropyl) Dimonium Methosulfate ND, Myristyl Lactate ND, Dicaprylyl Ether ND, Lauryl Alcohol ND, Tocopheryl Acetate, Tocopherol ND, Xanthan Gum ND, Isopropyl Alcohol, Glyceryl Laurate ND, Citric Acid ND, Benzyl Alcohol, Sodium Benzoate, Potassium Sorbate, Limonene ND, Linalool ND
FORMAT : 150ML
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